
泰州完美WM参加第83届IEC大会(2019年,中国上海)
- 分类:公司新闻
- 作者:泰州完美WM新能源办公室
- 来源:
- 发布时间:2019-10-25 14:22
- 访问量:
【概要描述】 第83届国际电工委员会(IEC)大会于2019年10月21日在上海开幕,这是我国继1990年、2002年后第三次承办IEC大会。此次大会共有来自94个国家和地区、国际标准化组织(ISO)、欧洲、泛美、亚太等多个国际和区域标准化组织的近4000名代表参会。 第83届IEC大会期间召开IEC/TC 113纳米光电子技术委员会全体大会,低维工作组委员、IEC/TC113/WG8注册专家倪振华、王浩敏、梁铮三人参加了会议并对项目进行了汇报。经IEC/TC113委员会讨论决议,由低维工作组提出的2项项目(见下)顺利进入NP(新提案)阶段。 项目1:IEC 62607-06-24 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - layer number distribution: optical contrast method 项目2: IEC 62607-06-23 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - carrier mobility and sheet resistance: Hall measurement IEC是制定和发布国际电工电子标准并制定相关合格评定程序的全球权威国际机构,与国际标准化组织(ISO)、国际电信联盟(ITU)并称为世界三大国际标准组织。本届IEC大会的主题为“质量成就美好生活”,将通过大会凝聚共识,与各国携手推进标准化在提升生活质量、共建人类命运共同体中发挥更大作用。
泰州完美WM参加第83届IEC大会(2019年,中国上海)
【概要描述】 第83届国际电工委员会(IEC)大会于2019年10月21日在上海开幕,这是我国继1990年、2002年后第三次承办IEC大会。此次大会共有来自94个国家和地区、国际标准化组织(ISO)、欧洲、泛美、亚太等多个国际和区域标准化组织的近4000名代表参会。
第83届IEC大会期间召开IEC/TC 113纳米光电子技术委员会全体大会,低维工作组委员、IEC/TC113/WG8注册专家倪振华、王浩敏、梁铮三人参加了会议并对项目进行了汇报。经IEC/TC113委员会讨论决议,由低维工作组提出的2项项目(见下)顺利进入NP(新提案)阶段。
项目1:IEC 62607-06-24 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - layer number distribution: optical contrast method
项目2: IEC 62607-06-23 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - carrier mobility and sheet resistance: Hall measurement
IEC是制定和发布国际电工电子标准并制定相关合格评定程序的全球权威国际机构,与国际标准化组织(ISO)、国际电信联盟(ITU)并称为世界三大国际标准组织。本届IEC大会的主题为“质量成就美好生活”,将通过大会凝聚共识,与各国携手推进标准化在提升生活质量、共建人类命运共同体中发挥更大作用。
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第83届IEC大会期间召开IEC/TC 113纳米光电子技术委员会全体大会,低维工作组委员、IEC/TC113/WG8注册专家倪振华、王浩敏、梁铮三人参加了会议并对项目进行了汇报。经IEC/TC113委员会讨论决议,由低维工作组提出的2项项目(见下)顺利进入NP(新提案)阶段。
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